Doktorské studium

Studijní obor Fyzika plazmatu

Název práce: Interakce neizotermického plazmatu s povrchem pevných látek

Školitel: doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D.

Oficiální zadání:
Cílem práce je výzkum interakce neizotermického plazmatu, zejména doutnavého vysokofrekvenčního výboje, s povrchem pevných látek, např. monokrystalického křemíku a plastů. Budou studovány procesy související s plazmovou modifikací povrchu materiálů, které předcházejí depozici tenkých vrstev, i počáteční fáze růstu vrstev. Půjde tedy o studium interakce těchto materiálů s např. argonovým, kyslíkovým, vodíkovým nebo metanovým plazmatem. Pomocí metod diagnostiky plazmatu (optická emisní spektroskopie, sondová měření, hmotnostní spektroskopie) budou charakterizovány procesy v plazmatu. Procesy probíhající na povrchu budou studovány in-situ elipsometrií. Připravené povrchy a tenké vrstvy budou následně zkoumány dalšími metodami charakterizace (optické metody v širokém spektrálním rozsahu od VUV po IR, AFM, XPS, SEM apod). Experimentální výsledky budou interpretovány s pomocí vhodných modelů plazmatu a jeho interakce s povrchem.
This PhD project aims to investigate interaction of non-isothermal plasma, namely radio frequency glow discharges, with surfaces, e.g. crystalline silicon or plastics. This study will be focused on processes related to the plasma modification of materials applied before a deposition of thin films, and to the beginning phase of film growth. Therefore, it will be carried out for e.g. argon, oxygen, hydrogen or methane plasma. The processes taking part in plasma will be investigated by plasma diagnostics methods (optical emission spectroscopy, probe measurements, mass spectroscopy). Processes at surfaces will be studied by in-situ ellipsometry. Prepared surfaces and films will be investigated by other characterization methods such as optical methods in wide spectral range (from VUV to IR), AFM, XPS and the like. Experimental results will be interpreted by appropriate models of plasma and its interaction with surface.
Literatura:
FLEWITT, P. J. E. a R. K. WILD. Physical methods for materials characterisation. Bristol: Institute of Physics Publishing, 1994. xvi, 517 s. ISBN 0-7503-0320-4., LIEBERMAN, Michael A. a Allan J. LICHTENBERG. Principles of plasma discharges and materials processing. New York: John Wiley & Sons, 1994. xxvi, 572. ISBN 0-471-00577-0., ZAJÍČKOVÁ, Lenka, Vilma BURŠÍKOVÁ, Zuzana KUČEROVÁ, Daniel FRANTA, Pavel DVOŘÁK, Radek ŠMÍD, Vratislav PEŘINA a Anna MACKOVÁ. Deposition of protective coatings in rf organosilicon discharges. Plasma Sources Science and Technology, Bristol: Institute of Physics Publishing, 2007, roč. 16, č. 1, s. S123-S132. ISSN 0963-0252.


login
© 2011 Přírodovědecká fakulta Masarykovy univerzity. tel: +420 549 49 1111, e-mail:
Všechna práva vyhrazena.
Webmaster: Alan Kuběna,
Grafický design: © 2011 Mgr. Pavel Brabec,
Obsahová struktura: © 2011 Mgr. Zuzana Kobíková
Počet přístupů: 512748 od 2.9.2011