Mgr. Daniel Franta, Ph.D.


kancelář: pav. 07/02012
Kotlářská 267/2
611 37 Brno

Zobrazit na mapě

telefon: 549 49 3836
e‑mail:
Životopis

Životopis

Identifikace osoby
  • Mgr. Daniel Franta, Ph.D., narozen 14.2.1970
Pracoviště
  • PřF MU, Ústav fyzikální elektroniky
    Kotlářská 2, 611 37 Brno
Funkce na pracovišti
  • vědecký pracovník
Vzdělání a akademická kvalifikace
  • 2000: Ph.D. v oboru Vlnová a částicová optika na Masarykově univerzitě, téma "Interakce světla s neideáními vrstevnatými systémy"
  • 1994: Mgr. v oboru Odborná fyzika na Masarykově univerzitě, téma "Rozptyl světla vrstevnatými systémy s náhodně drsnými rozhraními"
Přehled zaměstnání
  • od roku 1997: Masarykova univerzita, vědecký pracovník
Akademické stáže
  • 2008: Institut des Materiaux Jean Rouxel, Univesity of Nantes, France (7 dní)
  • 2003: Institute of Semiconductor Physics, Johannes Kepler University, Linz, Austria (10 dní)
  • 2002: Laboratoire de Magnétisme et d'Optique, Université de Versailles Saint-Quentin-en-Yvelines, Versailles, France (3 měsíce)
  • 2002: Institute of Semiconductor Physics, Johannes Kepler University, Linz, Austria (10 dní)
  • 2001: Institute of Semiconductor Physics, Johannes Kepler University, Linz, Austria (2 krát 10 dní)
  • 2000: Institute of Semiconductor Physics, Johannes Kepler University, Linz, Austria (10 dní)
Vybrané publikace
  • FRANTA, Daniel, David NEČAS, Lenka ZAJÍČKOVÁ, Ivan OHLÍDAL, Jiří STUCHLÍK a Dagmar CHVOSTOVA. Application of sum rule to the dispersion model of hydrogenated amorphous silicon. Thin Solid Films, Lausanne: Elsevier Science, 2013, roč. 539, Jul, s. 233-244. ISSN 0040-6090. doi:10.1016/j.tsf.2013.04.012. URL info
  • FRANTA, Daniel, David NEČAS, Lenka ZAJÍČKOVÁ, Ivan OHLÍDAL a Jiří STUCHLÍK. Advanced modeling for optical characterization of amorphous hydrogenated silicon films. Thin Solid Films, Lausanne: Elsevier Science, 2013, roč. 541, Aug, s. 12-16. ISSN 0040-6090. doi:10.1016/j.tsf.2013.04.129. URL info

8. 3. 2014