Informace o projektu
Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (CEPLANT plus)

Kód projektu
LO1411
Období řešení
1/2015 - 12/2019
Investor / Programový rámec / typ projektu
Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR
Fakulta / Pracoviště MU
Přírodovědecká fakulta

Projekt Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy slouží k podpoře udržitelnosti a dalšímu rozvoji centra CEPLANT vybudovaného v rámci OP VaVpI. Projekt bude zaměřen zejména na základní výzkum, který je nezbytným východiskem pro kvalitní aplikovaný výzkum v oblasti plazmových technologii.

Publikace

Počet publikací: 516


Předchozí 1 44 45 46 47 48 52 Další

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.