Informace o projektu
Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
- Kód projektu
- GP202/08/P038
- Období řešení
- 1/2008 - 12/2010
- Investor / Programový rámec / typ projektu
-
Grantová agentura ČR
- Postdoktorské projekty
- Fakulta / Pracoviště MU
- Přírodovědecká fakulta
- Klíčová slova
- magnetronové naprašování, hybridní PVD-PECVD, hysterezní chování, příprava tenkých vrstev, nanokompozit, BCN
Tento projekt je zaměřen na studium chování hybridního PVD-PECVD procesu, který bude využit pro přípravu nanokompozitních n-Ti:C/a-C:H a a-BCN:H materiálů. Jako zdroj uhlíku pro přípravu tenkých vrstev bude použit některý z plynných uhlovodíků dodávaný přímo do depozičního reaktoru, který zcela nahradí tradiční rozprašování uhlíkového terče. Hysterezní chování tohoto depozičního procesu a vlastnosti jím připravených vrstev budou srovnány s PVD procesem. Bude provedena srovnávací studie pro různé druhy uhlovodíků. Na základě provedených experimentů bude vylepšen stávající model reaktivního magnetronového naprašování. Tento model bude pracovat s nerovnoměrným tvarem hustoty výbojového proudu a bude rozšířen o interakci plynného uhlovodíku s povrchem magnetronové katody a stěnami depozičního reaktoru.
Publikace
Počet publikací: 37
2008
-
Harmonic analysis of discharge voltages as a tool to control RF sputtering deposition process
19th Europhysics Conference on the Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases - Book of Abstracts, rok: 2008
-
Influence of N2 and CH4 on deposition rate of boron based thin films prepared by magnetron sputtering
Book of Extended Abstracts of 2nd Central European Symposium on Plasma Chemistry, rok: 2008
-
Influence of N2 and CH4 on depositon rate of boron based thin films prepared by magnetron sputtering
Chemické listy, rok: 2008, ročník: 102, vydání: 1
-
Measurement of Fundamental and Higher Harmonic Frequencies as Tool to Control RF Sputtering Deposition Process
Programme and Abstract Book of the 23rd Symposium on Plasma Physics and Technology, rok: 2008
-
Modeling of Radial Variation of Target Poisoning During Reactive Sputtering Deposition Process
19th Europhysics Conference on the Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases - Book of Abstracts, rok: 2008
-
Modeling of reactive sputtering process with non-linear discharge current density
Book of Extended Abstracts of 2nd Central European Symposium on Plasma Chemistry, rok: 2008
-
Role of Neutral Gas Temperature on Hysteresis Behaviour of Reactive Sputtering Deposition Process
Programme and Abstract Book of 23rd Symposium on Plasma Physics and Technology, Prague, Czech Republic, 16.-19.June 2008, rok: 2008